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美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪
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美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪
1. 【USP729】检测项目I推荐; 2. 符合中国药典2010版; 3. 专利的Nicomp多峰算法; 4. 专利的自动稀释模块; 5. 精确度高; 6. 特为多组分不均匀体系设计; 7. 模块化设计便于维护和升级; 8. 可配搭多种功率光源和检测器
  • 订货编号:tlyon002727
  • 参考报价:
  • 人气指数:3442
  • 品牌名称:美国PSS
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  • 产品名称:美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪
  • 订货号:tlyon002727
  • 品牌名称:美国PSS
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专为复杂体系提供高精度粒度解析方案

NICOMP呈现的不仅仅是传统的高斯正态分布,还有更多。。。。。。

美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪 

NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析

 

  NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪采用先进的设计理念优化结构设计,充分有效地融合了动态光散射 (Dynamic Light Scattering, DLS)和电泳光散射(ELS)技术,即可以多角度(步长0.9°)检测分析液态纳米颗粒系的粒 度及粒度分布,又可以小角度测量Zeta电位。粒度测试范围:0.3 nm – 10 µm。

 

美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪 

 

Nicomp 380 ZLS&S纳米粒径与电位分析仪通过检测分析胶体颗粒的电泳迁 移率测量Zeta电位。Zeta电位是对颗粒之间相互排斥或吸引力的强度的度量,是表征胶体分散系稳定性的重要指标,Zeta电位(正或负)越高,体系越 稳定。Zeta电位表征的是粒子之间的排斥力。由于大部分的水相胶体体系是通过粒子之间的静电排斥力来保持稳定的,粒子之间的排斥力越大,粒子越不容易发 生聚集,胶体也会越稳定。Nicomp 380ZLS&S结合了动态光散射技术(DLS)和电泳光散射法(ELS),实现了同机测试纳米粒子分布 和Zeta电势电位。

自动滴定仪

Nicomp 380 ZLS&S纳米粒径与电位分析仪在增加自动滴定模块后,可以一次性使用同一样品在不同PH值或不同离子浓度的条件下进行一系列测试,实现了在等电点测试的技术难题。

 

相位分析光散射法PALS(Phase Analyze Light Scattering)技术

PSS 于 2004 年推出领先的 PALS 技术,用相位(Phase)变化的分析取代原 先频谱的漂移,不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高,而且突破了水相体系的限制,对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。

 

380ZLS&S 纳米粒径与电位分析仪特点

 

同机测试悬浮液体的粒径分布以及ZETA电势电位

Zeta电位运用了多普勒电泳迁移原理以及最新的相位分析散射法可以测试水相和有机相的样品

检测范围宽广,亚微米颗粒均可以被检测

样品测试量小

高辨析率

结果重现性好,误差小于1%

100 % 样品可回收利用

可搭载自动滴定仪, 自动稀释器和自动进样器

无须校准

一次性进样,避免交叉污染样品

可选配大功率激光发生器以及军品级APD雪崩二极管检测器来检测粒径小于1nm的颗粒

仪器原理:

电泳光散射法(ELS)与粒子的动电(Zeta)电位:

 

美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪 

 

ELS 是将电泳和光散射结合起来的一种新型光散射。它的光散射理论基础是 准弹性碰撞理论, 只是在实验时在式样槽中多加一个外电场,带电粒子即以固定 速度向与带电粒子电性相反的电极方向移动,与之相应的动力光散射光谱产生多普勒漂移,这一漂移 正比于带电粒子的移动速度,因此实验测得谱线的漂移,就 可以求得带电粒子的电泳速度,从而求得ζ-电位。

 

相位分析光散射法PALS(Phase Analyze Light Scattering)技术

PSS 于 2004 年推出领先的 PALS 技术,用相位(Phase)变化的分析取代原 先频谱的漂移,不仅使 Zeta 电位分析的精度及稳定性有了显著的提高,而且突破了水相体系的限制,对油、有机物体系同样能提供 Zeta 电位的分析。

动态光散射原理

 

 

美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪 

Nicomp 380纳米粒径分析仪采用动态光散射 (Dynamic Light Scattering, DLS)原理来获得范围在0.3 nm到10 μm的胶体体系的粒度分布。DLS是通过一定波长 的聚焦激光束照射在悬浮于样品溶液的粒子上面,从而产生很多的散射光波。这些光波会互相干涉从而影响散射强度,散射强度随时间不断波动,二者之间形成一定 的函数关系。粒子的扩散现象(或布朗运动)导致光强不断波动。光强的变化可以通过探测器检测得到。使用自相关器分析随时间而变的光强波动就可以得到粒度分 布系数(Particle size distribution, PSD)。单一粒径分布的自相关函数是一个指数衰减函数,由此可以很容易通过衰减时间 计算得到粒子扩散率。最终,粒子的半径可以很容易地通过斯托克斯(Stokes-Einstein)方程式计算得到。

 

如下是Nicomp 380纳米粒径分析仪的检测原理简图:

美国PSS Nicomp NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪

 

大部分样品一般都不均匀,往往会呈现多分散体系状态,即测出来的粒径正态分布范围会比较大,直观的呈现是粒径分布峰比较宽。自相关函数是由多组指数衰减函数综合组成,每一个指数衰减函数都会因指数衰减时间不同而存在差异,此时计算自相关函数就变得不再简单。

Nicomp 380纳米粒径分析仪巧妙运用了去卷积算法来转化原始数据,从而得出最接 近真实值的粒度分布。Nicomp 尤其适合测试粒度分布复杂的样品体系,利用一组独特的去卷积算法将简单的高斯正态分布模拟成高分辨率的多峰分布模式, 这种去卷积分析方法,即得到PSS粒度仪公司独有的粒径分布表达方法—Nicomp分布(Nicomp Distribution)。

 

有些仪器的高斯分析模式可以使用基线调整参数的功能,以此来补偿测试环境太脏而超出仪器灵敏度的问题。高斯分析模式也可以允许使用者指定“固体重量模式”或者“囊泡重量模式”来分析带有小囊泡的胶体体系,比如脂质体。

Nicomp分析方法是一种专利的高分辨率的去卷积算法,它首次在1990年提出并应用 于分析和统计粒径分布。在历史上已经证明Nicomp分析方法能够精确分析非常复杂的双峰样品分散体系(比如 2:1比例),甚至是三峰样品分散体系。在 科学研究中,找到粒子聚集分布的杂峰是非常有用的。

 

粒径检测范围

粒度分析:0.3 nm – 10 μm

Zeta电位检测范围

粒度1 nm-30 μm

数字相关器通道数

1024

分析方法

粒径:动态光散射,Gaussian 单峰算法和 Nicomp 无约束自由拟合多峰算法;

电位:电泳光散射(ELS)技术和相位分析光散射法

pH值范围

2 - 12

温度范围

2℃ - 90 ℃

激光光源(可选)

5 mW氦氖光源;

15 mW, 35 mW,50 mW激光光源;

100 mW激光光源(红);

20 mW,50 mW,100 mW激光光源(蓝/绿)

检测角度(可选)

90°或 多角度(10°- 175°,可选配)

检测器(可选)

PMT(光电倍增管),

CMP(4倍增益放大)

APD雪崩二极管(7倍增益放大)

高浓度样品背散射

175°背散射

可用溶剂

水相,绝大多数有机相

样品池

标准4 mL样品池(1cm×4cm,高透光,石英玻璃或塑料);

1mL样品池(玻璃,高透光率微量样品池,最小进样量10μL)

选配模块

高浓度背散射;自动稀释模块,自动进样器,多角度检测器,高能激光发生器,高增益检测器,21CFR PART11规范软件,在线模块。

分析软件

Windows 兼容软件;

符合 21 CFR Part 11 规范分析软件(可选)

验证文件

电压

220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz

计算机配置要求

Windows XP及以上版本windows操作系统,40Gb硬盘,1G内存,光驱,USB接口,串口(COM口)

外形尺寸

56 cm * 41 cm * 24cm

重量

约26kg(与配置有关)

仪器配件:

         大功率激光二极管

PSS使用一系列大功率激光二极管来满足更多更苛刻的要求。使用大功率激光照射,以便从小粒子出货的足够的入射光。

15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波长为635nm 的红色二极管。

20 mW 50 mW 和 100 mW 波长为 514.4nm的绿色二极管。

 

雪崩光电二极管检测器(APD Detector)

提供比普通光电倍增管(PMT)高20倍的灵敏度。

Zeta 电位模块

Zeta电位是确定交替系统稳定性的重要参数,决定粒子之间静电排斥力大小,从未影响粒子间的聚集作用及分散系的稳定。该模块使用电泳光散射 (ELS)技术,通过测量带点粒子在外加电场中的移动速度,即电泳迁移率、推算出Zeta电位,实现了粒子的粒径与Zeta电位,实现了粒子的粒径与 Zeta电位测定的同机操作。

 

自动稀释系统模块

将初始浓度较高的样本自动稀释至可检测的的浓度,可稀释初始固含量为50%的原始样品,本模块收专利保护,其可免除人工稀释样品带来的外界环境的干扰和数据上的误差,此技术被用于批量进样和在线检测的过程中。

 

多角度检测系统模块

提供多角度的检测能力。使用高精度的步进电机和针孔光纤技术可对散射光的接收角度进行调整,可为微粒粒径分布提供可高分辨率的多角度检测。对高浓度样品(≤40%)以及大粒子多分散系的粒径提供了提供15至175度之间不同角度上散射光的采集和检测。

 

自动进样器

批量自动进样器能实现最多76个连续样本的分析而无需操作人员的干预。因此它是一个非常好的质量控制工具,能增大样品的处理量。大大节省了宝贵的时间。

 

自动滴定模块

样品的浓度及PH值是Zeta电位的重要参数,搭配瑞士万通的滴定仪进行检测,真正实现了自动滴定,自动调节PH值,自动检测Zeta电位值。免除外界的干扰和数据上的误差,精确分析出样品Zeta电位的趋势。 

样品池

标准4 mL样品池(1cm×4cm,高透光,石英玻璃或塑料);

1mL样品池(玻璃,高透光率微量样品池,最小进样量10μL)

数据线

 

NICOMP 380ZLS&S纳米粒径与电位分析仪广泛适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。

 

1)磨料

       磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。

 

2)化学机械抛光液(CMP SLURRY)

       化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。抛光过程很大 程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计,对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。

 

3)陶瓷

       陶瓷在工业中的应用非常广泛,从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最终产品的性能和质量。

 

4)粘土

       粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似,但粉沙的颗粒比粘土大。粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。

 

5)涂料

       涂料种类繁多,用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。

 

6)污染监测

       粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用,产品的污染对产品的质量影响巨大。绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范,必须严格遵守和执行,以保证产品满足质量要求。

 

7)化妆品

       无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂,它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性 能。保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收,而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

8)乳剂

       乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系,通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型,一种是水分散在油中,另一种是油分散在水中。常见的乳剂制 品有牛奶(水包油型)和黄油(油包水型),加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。

 

9)食品

       食品的原料(粉末及液体)通常来源于不同的加工厂,不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使最终制品的质量均一稳定。原料性质的任何波动都会对食品的口 味和口感产生影响。用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制(QA/QC)的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。

 

10)液体工作介质/油

       液体工作介质(如:油)越来越昂贵,延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中(如:油浴润滑介质或 液力传递介质),因此需要一种方法来确定介质(油)的更换周期。通过监测工作介质(油)中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿 命。

 

11)墨水

       随着打印机技术的不断发展,打印机用的墨水变得越来越重要。喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下,且分布均匀,大的颗粒易于堵塞打印头并影响打 印质量。墨水是通过研磨方法制得的,可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程,以保证墨水的颗粒粒度分布均匀,避免产生聚集的大颗粒。

 

12)胶束

       胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后,其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒,这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。

       乳液、色漆、制药粉体、颜料、聚合物、蛋白质大分、二氧化硅以及自组装TiO_2纳米管(TNAs)等

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