• 产品名称：PLD950八靶脉冲激光沉积系统
• 订货号：tlyon005349
• 品牌名称：法国Vinci

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复杂材料和晶体结构的合成是研发领域不断增长的要求。脉冲激光沉积 (PLD) 技术为此类要求提供了智能。它是一种多功能的涂层技术，可以生长各种材料，例如氮化物、氧化物、超晶格、聚合物、复合材料。 这种配置适应大范围的生长参数。例如，过程压力范围从 10^-10 到数百毫巴。这种灵活且不断发展的 PLD 设备由一个带有用于处理和表征端口的腔室组成。该系统兼容 2 英寸样品。特高压 & 干泵设计防止沉积膜受到外部污染源的污染。样品可以从负载锁定室或像 Meca 2000 Mecatrans 这样的 UHV 传输隧道传输。

 特征

* 反应或 UHV 脉冲激光沉积能力
* 射频等离子体源
* 5 轴目标支架（4 个目标或 8 个根据要求）
* 可转移的 2 英寸基板和目标支架
* 耐氧 950°C
* 2'' 样品支架
* 10 ^-10mbar室
* 涡轮分子、离子和钛升华泵浦
* 用于原位表征的端口
* 高压 RHEED
* 激光窗口的快速维护
* 负载锁定室
* 传输隧道兼容性
* 进化系统

*本产品非医疗器械,不能用于临床诊断和治疗,仅科研用途!*  

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