• 产品名称：AMC空气分子污染物监测仪
• 订货号：tlyon005449
• 品牌名称：Masatech

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AMC - Airborne Molecular Contamination

AMC的定义和来源
半导体工业中的空气分子污染、定义和来源

AMC的定义
术语“空气分子污染”（AMC）旨在描述污染的相关特征，并用于区分微粒污染：
通过空气中的对流或扩散过程，污染物从源到产品的空气传输路径
分子污染物在空气中高度稀释，作为颗粒没有团聚特性
污染-化合物可能对与分子化合物接触的产品或生产工具造成损害
空气分子污染也常被称为“化学污染”。后面的术语是指AMC的主要观察效果，AMC是产品表面的化学改性，例如通过微腐蚀、氧化或表面pH值的变化。

AMC通常根据污染化合物的主要化学性质或其观察到的效果进行分类和分组。
典型的基团是酸、碱、可缩合物和掺杂剂。
然而，应注意的是，特定化合物可能与上述基团中的一个以上相关，因为它们与产品的相互作用可能取决于产品状态和影响地点。


AMC来源
空气中的分子污染具有多种潜在来源，可分为生产厂房或洁净室外部和洁净室或生产环境内部。
识别空气中分子污染（AMC）的来源、运输途径和影响地点对于清洁生产过程的适当和稳定控制至关重要。
识别和量化各种AMC及其运输至生产环境的途径，是确定适当解决方案并可靠防止对生产产生负面影响的关键。

在分子污染的总体背景下，有机化合物组——特别是挥发性有机化合物（VOC）——最近受到了广泛关注。挥发性有机化合物以多种形式存在于清洁生产环境中。这尤其适用于使用大量溶剂和清洁剂的微电子和半导体行业。在许多情况下，溶剂的排放充当AMC的前体，对产品或生产工具产生严重影响，例如在半导体结构化的光刻工艺中。

Masa AMC 分析仪 是解决以下问题的解决方案：

快速、果断地确定AMC的来源以及进入、分销和交付的途径
在影响点实时动态量化各种有机AMC
验证缓解概念的性能和寿命
在线监测和不间断操作，以符合AMC的工艺规范
分析FOUP内部的AMC，并直接在工具层面进行测量
超高分辨率，以NH₃氨为例，分辨率可达到10ppt.

 

 

您知道什么是AMC吗？其实AMC是气体性分子污染物(Airborne Molecular Contamination)的缩写，主要被SEMI定义有四大子项目：MA(酸蒸气)、MB(硷蒸气)、MC(凝结物质)及MD(掺杂物质)，来源可能是无尘室外的汽车排气、大气臭氧、工厂排放等，或是洁净室内的化学溶剂挥发、蚀刻酸气、塑料制品溢散等，由于来源非常广泛，污染物项目族繁多元，因此如何有效控制逐渐成为相关业者相当困扰的一大难题。

 

为何现在大家开始重视AMC？

(1)AMC对半导体制程良率的影响，其实相关业者很早就已开始进行防范，但过去仅针对于大颗粒物质；但随着制程愈来愈精细，预防的标准也愈形严格，并在28奈米制程时达到检测要求的高峰。不仅在体积大小较过去严苛，AMC检测的项目也从过去单纯的酸硷物质，渐渐扩增到有机物质，而有机物的物种的监测也从过去半导体重视的十多种，渐渐扩增到新的未知有机物物种。

 

(2)为何要投入未知物质的侦测？原因在于半导体制程分有很多阶段，每段都有不同的化学物质投入，因此当我们要判断污染来源时，我们除了要判断当下制程的污染外，也要了解前段制程是否残留有污染，或操作人员当下是否有造成其他来源的污染，唯有每段精确的掌握状况，才可能真的杜绝污染源继续发展。

 

产业如何因应AMC问题？

(1)半导体业者为了与其他竞争者拉出领先差异，对于AMC的全面性检测标准要求日益严格。目前台湾知名半导体大厂也已导入这样的自动监控设备，因为所有业者都了解，透过良率的提升，将是维持竞争优势的最大命脉。

 

(2)光电产业部分，OLED的前端LTPS制程也开始重视AMC的侦测控制。这块制程在电性控制上非常重要，因此AMC的侦测也相形重要。台湾某大面板厂目前也已导入自动监控设备，以求良率的提升。

面板产业常用的曝光机制程、表层涂布制程，对于AMC干扰都会有相当敏感的反应，因此更需对AMC作更精密的控制。AMC的产生会让曝光机的镜头产生化学反应，进而在光学镜头上产生化合物的附着，而这样的状况就会产生制程上的异常点。

 

 

*本产品非医疗器械,不能用于临床诊断和治疗,仅科研用途!*  

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